[摘 要]根據(jù)專利信息的特點(diǎn)，從指標(biāo)設(shè)計(jì)、分類、構(gòu)建等方面進(jìn)行分析研究，初步建立專利分析評(píng)價(jià)指標(biāo)體系，包括數(shù)量、質(zhì)量、價(jià)值等方面的分析評(píng)價(jià)指標(biāo)，以期對(duì)國(guó)家或地區(qū)或機(jī)構(gòu)等不同主體的研發(fā)現(xiàn)狀、研發(fā)效益、研發(fā)脈絡(luò)與趨勢(shì)、創(chuàng)新能力與競(jìng)爭(zhēng)實(shí)力等方面進(jìn)行專利角度的定量分析評(píng)估，從而為科技研發(fā)和決策管理提供支撐服務(wù)。同時(shí)也對(duì)指標(biāo)利用過(guò)程中存在的問(wèn)題提出建議。
　　[關(guān)鍵詞]專利指標(biāo) 專利評(píng)價(jià) 專利分析 專利信息
　　[分類號(hào)]G353.1
　　
　　1 構(gòu)建目的與設(shè)計(jì)原則
　　
　　1．1構(gòu)建目的
　　?方便專利信息分析，使專利調(diào)研更有針對(duì)性，能夠?qū)��?guó)家、地區(qū)、機(jī)構(gòu)、領(lǐng)域等不同層面和不同主體的專利情況進(jìn)行有效分析，提出當(dāng)前和未來(lái)發(fā)展在技術(shù)研發(fā)和競(jìng)爭(zhēng)方面的驅(qū)動(dòng)因素，服務(wù)于專利戰(zhàn)略決策。
　　?優(yōu)化專利評(píng)價(jià)。基于對(duì)同一層面不同主體的對(duì)比分析，掌握各自的優(yōu)勢(shì)與不足以及具體差距，掌握整體的發(fā)展態(tài)勢(shì)與水平，給予科學(xué)評(píng)價(jià)。
　　?通過(guò)專利評(píng)價(jià)，有效引導(dǎo)評(píng)價(jià)對(duì)象整合專利資源，加強(qiáng)薄弱環(huán)節(jié)，鞏固專利優(yōu)勢(shì)，并理性引導(dǎo)技術(shù)創(chuàng)新向?qū)嶋H生產(chǎn)力轉(zhuǎn)化，為不同層面不同主體的科技創(chuàng)新、經(jīng)濟(jì)發(fā)展起到良好的引導(dǎo)作用。
　　
　　1．2設(shè)計(jì)原則
　　?科學(xué)性。單一指標(biāo)的使用和不同指標(biāo)的配合使用，應(yīng)當(dāng)合理；指標(biāo)所涉及的計(jì)算公式，應(yīng)當(dāng)經(jīng)得起推敲并為能實(shí)踐所肯定。
　　?客觀性。所有指標(biāo)均是基于實(shí)際統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)，而非主觀臆斷；指標(biāo)對(duì)于數(shù)據(jù)的反映，應(yīng)當(dāng)貼切，沒(méi)有歧義。
　　?系統(tǒng)性。指標(biāo)體系應(yīng)當(dāng)全盤(pán)考慮到數(shù)量和質(zhì)量、現(xiàn)狀和趨勢(shì)、投入和產(chǎn)出等不同角度對(duì)實(shí)際情況的反映，力求全面。
　　?實(shí)用性。指標(biāo)體系不能脫離于實(shí)際的專利分析評(píng)價(jià)工作，與科技創(chuàng)新、經(jīng)濟(jì)貿(mào)易密切相關(guān)。
　　?前瞻性。盡管現(xiàn)時(shí)存在某些不能獲取的數(shù)據(jù)，但鑒于專利統(tǒng)計(jì)的發(fā)展，仍預(yù)設(shè)部分專利指標(biāo)以支持將來(lái)?xiàng)l件成熟時(shí)的應(yīng)用。
　　
　　2　專利分析評(píng)價(jià)指標(biāo)體系的具體設(shè)計(jì)
　　
　　根據(jù)指標(biāo)反映數(shù)據(jù)性質(zhì)的不同，可以將專利指標(biāo)劃分為數(shù)量類指標(biāo)、質(zhì)量類指標(biāo)、價(jià)值類指標(biāo)等；根據(jù)指標(biāo)反映階段過(guò)程的不同，也可將專利指標(biāo)劃分為投入類指標(biāo)、產(chǎn)出類指標(biāo)、運(yùn)營(yíng)類指標(biāo)、保護(hù)類指標(biāo)、效益類指標(biāo)等。本文采用第一種分類方式進(jìn)行歸納，同時(shí)在具體指標(biāo)的闡述上將部分涉及第二種分類方式。
　　
　　2．1數(shù)量類指標(biāo)
　　2．1．1專利數(shù)量(Number of Patent，NOP)包括專利申請(qǐng)量、專利授權(quán)量、無(wú)效專利量等，還可根據(jù)專利類型進(jìn)一步細(xì)分。該指標(biāo)可以反映國(guó)家、地區(qū)、行業(yè)、領(lǐng)域、組織、機(jī)構(gòu)、個(gè)人等不同層面、不同主體在某一時(shí)間范圍內(nèi)的專利產(chǎn)出情況。其中，授權(quán)量和無(wú)效量的指標(biāo)還可以反映質(zhì)量情況。
　　2．1．2專利投入量(Input of Patent，IOP)以某一時(shí)間范圍為單位，統(tǒng)計(jì)的機(jī)構(gòu)研發(fā)人員投入量、研發(fā)經(jīng)費(fèi)投入量、教育或培訓(xùn)投入量、宣傳投入量等。該指標(biāo)可以反映專利投入方面的狀況。
　　2．1．3專利增長(zhǎng)率(Patent Growth Rate，PGR)指專利數(shù)量增長(zhǎng)隨時(shí)間變化的百分比。該指標(biāo)可以反映不同層面、不同主體技術(shù)創(chuàng)新行為變化的快慢，所在研發(fā)領(lǐng)域受重視的程度以及核心知識(shí)產(chǎn)權(quán)的技術(shù)情況等。
　　2．1．4專利投入增長(zhǎng)率(Patent Input Rate，PIR)指專利投入量隨時(shí)間變化的百分比。該指標(biāo)可以反映不同主體對(duì)技術(shù)創(chuàng)新投入變化的情況，從而了解技術(shù)受重視的程度。
　　
　　2．2質(zhì)量類指標(biāo)
　　該類指標(biāo)是專利質(zhì)量的表征，反映了專利的技術(shù)創(chuàng)新程度，與高新技術(shù)、前沿科學(xué)的關(guān)聯(lián)程度等情況。
　　2．2．1 專利授權(quán)率(Patent Authorization Rate，PAR)專利授權(quán)量(s)占專利申請(qǐng)量(A)的比值。只有獲得授權(quán)的專利才具有新穎性、創(chuàng)造性、實(shí)用性，因此授權(quán)量及授權(quán)率的大小能更真實(shí)地反映專利技術(shù)的實(shí)際情況。
　　公式：PAR=S/A
　　2．2．2引證指標(biāo)/專利引文數(shù)量(Cited Index，CI)在一定時(shí)間范圍內(nèi)，在先專利被在后專利(一般以授權(quán)專利為統(tǒng)計(jì)對(duì)象)所引用的次數(shù)(cn)之和。擁有高被引次數(shù)專利的機(jī)構(gòu)可能比其競(jìng)爭(zhēng)者或同行在技術(shù)上更領(lǐng)先或較為基礎(chǔ)，處于產(chǎn)業(yè)的強(qiáng)勢(shì)地位，從而可以用來(lái)評(píng)估專利的技術(shù)影響力。此外，根據(jù)引用情況還可以揭示專利的承繼性，幫助科研人員梳理科技創(chuàng)新脈絡(luò)。
　　公式：CI=C1+C2+C3+……+Cn
　　2．2．3引證率(Cited Rate，CR)該指標(biāo)可分為自引率(self-Cited Rate，SCR)和他引率(Other-Cited Rate，OCR)。自引率指在先專利被該專利的權(quán)利人(或發(fā)明人)的在后專利所引用的次數(shù)(SCI，自引量)與該在先專利所擁有的總被引次數(shù)(CI)的比值。在先專利可以是單件的，也可以是呈集群的若干專利。同理，他引率指分析對(duì)象擁有的在先專利被他人的在后專利所引用的次數(shù)(OCI，他引量)與該在先專利所擁有的總被引次數(shù)(CI)的比值。此項(xiàng)指標(biāo)可在一定程度上反映分析對(duì)象在某專題或某領(lǐng)域研發(fā)的連續(xù)性、進(jìn)展程度、集聚程度以及其圍繞技術(shù)核心的專利戰(zhàn)略情況。
　　公式：SCR=SCI/CI,OCR=OCI/CI
　　2．2．4當(dāng)前影響指數(shù)(Current Impact Index，CII)指某機(jī)構(gòu)、領(lǐng)域、國(guó)家統(tǒng)計(jì)年之前數(shù)年的每年授權(quán)專利被引次數(shù)與當(dāng)年授權(quán)專利數(shù)量的比值。通過(guò)此指標(biāo)，可以反映分析對(duì)象專利的組合質(zhì)量和當(dāng)前技術(shù)狀況：
　　?當(dāng)CII=1，表明所分析對(duì)象過(guò)去數(shù)年內(nèi)的專利平均被引用的情況和同期整個(gè)系統(tǒng)的情況一致。
　　?當(dāng)CII=1.1，表明所分析對(duì)象過(guò)去數(shù)年內(nèi)的專利平均被引率比同期整個(gè)系統(tǒng)的專利平均被引率高10％，該技術(shù)具有較大影響。
　　?CII是與時(shí)間保持同步的指標(biāo)，當(dāng)一個(gè)機(jī)構(gòu)近幾年的專利被引次數(shù)開(kāi)始降低時(shí)，則該機(jī)構(gòu)當(dāng)前年的CI]值將會(huì)下降。
　　公式：CII={∑[an×(bn/an)/(Bn/An)]}/∑an(n∈[1，5])
　　其中：a=所分析對(duì)象某年的專利授權(quán)量，b=所分析對(duì)象某年授權(quán)專利的被引次數(shù)；A=分析對(duì)象所在系統(tǒng)某年的專利授權(quán)總量，B=分析對(duì)象所在系統(tǒng)某年授權(quán)專利的被引次數(shù)。
　　2．2．5技術(shù)強(qiáng)度(Technology Strength，TS)指對(duì)授權(quán)專利數(shù)量進(jìn)行當(dāng)前影響指數(shù)的加權(quán)，由所分析對(duì)象所擁有的專利授權(quán)量(S)乘以其當(dāng)前影響指數(shù)(CⅡ)得到。此指標(biāo)可反映分析對(duì)象授權(quán)專利質(zhì)量的總體水平以及一個(gè)機(jī)構(gòu)的綜合技術(shù)實(shí)力。
　　公式：TS=S×CⅡ
　　2．2．6技術(shù)周期(Technology Cycle Time，TCT)指分析對(duì)象擁有的授權(quán)專利所引用的所有專利的專利年齡的時(shí)間中位數(shù)。通過(guò)此指標(biāo)，可以評(píng)估企業(yè)創(chuàng)新或科技發(fā)展的速度，并可與 專利增長(zhǎng)率指標(biāo)相結(jié)合，分析某個(gè)對(duì)象研發(fā)活躍的技術(shù)領(lǐng)域。技術(shù)周期具有產(chǎn)業(yè)依存性，如電子類的約3―4年，而制藥類的約為8-9年，造船類的則可能長(zhǎng)達(dá)15年。
　　公式：一篇專利的TCT=M(M是M1,M2,M3，…Mn的中位數(shù))
　　公式：機(jī)構(gòu)或技術(shù)領(lǐng)域的TCT=∑Mn/N
　　其中：①M(fèi)n是該專利所引用的第n篇專利的專利年齡，即：M=本專利的授權(quán)年份．被引用專利的授權(quán)年份；N表示該機(jī)構(gòu)或技術(shù)領(lǐng)域擁有的專利總數(shù)；∑Mn表示該機(jī)構(gòu)或技術(shù)領(lǐng)域所擁有的各項(xiàng)專利所分別引用的各專利的專利年齡的中位數(shù)之和。②當(dāng)n是偶數(shù)，且M(n/2)=M(n/2+1)時(shí)，規(guī)定該專利的技術(shù)周期TCT=M(n/2+1)+0.5。
　　2．2．7科學(xué)關(guān)聯(lián)度(science Linkage，SL)在一定時(shí)間范圍內(nèi)，分析對(duì)象各專利引用的科學(xué)類論文數(shù)量(sn)之和與其所擁有的專利數(shù)量(N)的比值，即平均一件專利所引證的正式發(fā)表的科學(xué)類論文的數(shù)量。此指標(biāo)可衡量專利技術(shù)和前沿科學(xué)研究的關(guān)系或影響強(qiáng)弱，它也具有產(chǎn)業(yè)依存性：機(jī)械行業(yè)的科學(xué)關(guān)聯(lián)度平均數(shù)值可能接近0，而高科技生化產(chǎn)業(yè)可能高達(dá)15。
　　公式：SL=∑Sn/N
　　此外，還可以用科學(xué)周期和科學(xué)影響力兩個(gè)指標(biāo)來(lái)評(píng)估科學(xué)基礎(chǔ)的深厚程度�？茖W(xué)周期是指被引用的科學(xué)文獻(xiàn)發(fā)表時(shí)間與專利授權(quán)時(shí)間之間的時(shí)差中位數(shù)�？茖W(xué)影響力是引用的發(fā)表在某刊的科學(xué)論文數(shù)量與該期刊的影響因子的乘積。
　　2．2．8科學(xué)強(qiáng)度(Science Strength，SS)指對(duì)專利數(shù)量進(jìn)行科學(xué)關(guān)聯(lián)度的加權(quán)，由所分析對(duì)象擁有的專利數(shù)(s)乘以其科學(xué)關(guān)聯(lián)度(sL)得到。此指標(biāo)可反映分析對(duì)象的專利與科學(xué)研究關(guān)聯(lián)度活躍性的總體水平。
　　公式：SS=S×SL
　　2．2．9相對(duì)研發(fā)能力(Relative Research and Development Ability，RRDA)以公司的專利數(shù)(NOP)、專利被他人引用次數(shù)(OCI)和自我引用次數(shù)(SCI)為參數(shù)，賦予不同的權(quán)重計(jì)算得來(lái)。此指標(biāo)可反映國(guó)家或企業(yè)整體的專利水平和專利質(zhì)量。
　　公式：RRDA=NOP×WI+SCI×W2+OCI×W3
　　通常，W1、W2、W3有兩種取值情況：①Wl=l，W2=0.8，W3=1.2；②W1=1，W2=1.2，W3=1.4。
　　2．2．10產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化指標(biāo)(Standardized Patent Indicators forCross-industrial Comparison，SPIFCIC)將一個(gè)機(jī)構(gòu)的指標(biāo)值除以該機(jī)構(gòu)所在產(chǎn)業(yè)或行業(yè)的該指標(biāo)的平均值，即一個(gè)機(jī)構(gòu)相對(duì)于本產(chǎn)業(yè)/行業(yè)平均水平的優(yōu)劣程度。在跨產(chǎn)業(yè)橫向比較的時(shí)候，由于產(chǎn)業(yè)之間的差異，而不能直接使用專利指標(biāo)值進(jìn)行不同產(chǎn)業(yè)之間的比較，為此需要使用產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化指標(biāo)。通過(guò)這種方式，可以消除不同產(chǎn)業(yè)所帶來(lái)的不同影響，進(jìn)而找出不同產(chǎn)業(yè)中表現(xiàn)較好的機(jī)構(gòu)。前述大多數(shù)指標(biāo)均可應(yīng)用于本指標(biāo)中，如產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化專利數(shù)量、產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化專利年增長(zhǎng)率、產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化的當(dāng)前影響指數(shù)等。
　　
　　2．3價(jià)值類指標(biāo)
　　2．3．1研發(fā)效率(Propensity t0 Patent，PTP)在一定時(shí)間范圍內(nèi)，申請(qǐng)/授權(quán)專利數(shù)量(V)與其占研發(fā)經(jīng)費(fèi)，人員數(shù)量(Y)的比率。該指標(biāo)可以用來(lái)評(píng)估某國(guó)家、企業(yè)在一段時(shí)間內(nèi)專利數(shù)量產(chǎn)出的成本效率。一般來(lái)說(shuō)，專利產(chǎn)出數(shù)量越多，研發(fā)效率越高，則技術(shù)研發(fā)能力越強(qiáng)。
　　公式：FrP=V/Y
　　2．3．2專利自實(shí)施率(Self-Actualization Rate of Patent，ARP)在一定時(shí)間范圍內(nèi)，授權(quán)專利自實(shí)施的數(shù)量(P)占專利授權(quán)量(S)的比率。專利價(jià)值的實(shí)現(xiàn)是通過(guò)實(shí)施來(lái)達(dá)到減少投入、增加產(chǎn)出、提高產(chǎn)品質(zhì)量、發(fā)展生產(chǎn)力等種種目的的，因此一項(xiàng)專利授權(quán)后是否實(shí)施是衡量專利是否具有產(chǎn)業(yè)推廣價(jià)值的重要指標(biāo)。
　　公式：ARP=P/S
　　2．3．3專利轉(zhuǎn)移率(Patent Transfer Rate，PTR)在一定時(shí)間范圍內(nèi)，專利轉(zhuǎn)移量(z)與其占專利授權(quán)量(S)的比率。該指標(biāo)可分為專利許可實(shí)施率和專利轉(zhuǎn)讓率兩類。一般來(lái)說(shuō)只有已實(shí)施有收益的或者將會(huì)實(shí)施有潛在經(jīng)濟(jì)價(jià)值的專利才會(huì)發(fā)生專利轉(zhuǎn)移，因此該指標(biāo)可以在一定程度上衡量專利價(jià)值。但在使用此指標(biāo)衡量專利價(jià)值時(shí)，應(yīng)注意區(qū)分與國(guó)防相關(guān)和與公益相關(guān)等專利種類。
　　公式：PTR=Z/S
　　2．3．4專利質(zhì)押率(Patent Impawn Rate，PIR)在一定時(shí)間范圍內(nèi)，專利權(quán)質(zhì)押量(Q)占專利授權(quán)量(S)的比值。
　　公式：PIR=Q/S
　　2．3．5專利存活率(Patent Validity Rate，PVR)以自申請(qǐng)日或授權(quán)日起一定期限后的有效專利量(Y)占專利授權(quán)量(s)的比值。由于維持專利權(quán)需要繳納專利年費(fèi)，一般來(lái)說(shuō)專利權(quán)人只會(huì)對(duì)有價(jià)值的專利續(xù)費(fèi)，因此該指標(biāo)可在一定程度上衡量專利的重要性和技術(shù)水平。
　　公式：PVR=Y/S
　　2．3．6專利無(wú)效宣告率(Patent Invalid Claim Rate，PICR)在一定時(shí)間范圍內(nèi)，被宣告無(wú)效的專利量(w)占專利授權(quán)量(S)的比值。該指標(biāo)可反映分析對(duì)象專利的總體質(zhì)量及所處的競(jìng)爭(zhēng)環(huán)境，甚至在一定程度上還可反映專利審查的質(zhì)量水平。
　　公式：PICR=w/S
　　2．3．7專利屆滿率(Patent Expiation Rate，PER)因期限屆滿而終止的專利量(J)占其專利授權(quán)量(s)的比值。通過(guò)此項(xiàng)指標(biāo)，可以反映被分析對(duì)象的專利技術(shù)總體水平，也可在一定程度上反映分析對(duì)象在技術(shù)發(fā)展方向上的穩(wěn)定性。
　　公式：PER=J/S
　　2．3．8同族專利授權(quán)率(Authorization Rate of Patent Family，AROPF)在一定時(shí)間范圍內(nèi)，某分析對(duì)象所擁有的同族專利授權(quán)量(T)占其授權(quán)專利總量(A)的比值。同族專利的規(guī)模大小能反映該項(xiàng)技術(shù)的重要程度；同族專利的區(qū)域分布情況可以反映專利權(quán)屬主體的市場(chǎng)發(fā)展計(jì)劃。
　　公式：AROPF=T/A
　　2．3．9專利壟斷指標(biāo)(Patent Monopoly Index，PMI)本領(lǐng)域申請(qǐng)量最大的申請(qǐng)人的申請(qǐng)量(NOP)占本領(lǐng)域?qū)＠�申�?qǐng)總量(TNOP)的比值。該指標(biāo)可反映某領(lǐng)域?qū)＠�申�?qǐng)的集中程度。一般而言，壟斷指標(biāo)的數(shù)值越大，則說(shuō)明本領(lǐng)域申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人集中程度越高，該領(lǐng)域?qū)＠�申�?qǐng)的戰(zhàn)略意義較大。該指標(biāo)還可與同族專利授權(quán)率相聯(lián)系，反映專利的戰(zhàn)略價(jià)值。
　　公式：PMI=NOP/TNOP
　　
　　3 需要注意的問(wèn)題
　　
　　各項(xiàng)專利指標(biāo)并不是孤立的，在應(yīng)用時(shí)需要加以綜合，并與空間、時(shí)間變量相結(jié)合。各國(guó)的專利制度不盡相同，部分國(guó)家的專利只指發(fā)明專利，而不涉及實(shí)用新型和外觀設(shè)計(jì)。有若干指標(biāo)涉及法律狀態(tài)，各國(guó)對(duì)其界定和用語(yǔ)存有差異。各國(guó)在專利類型和專利體系方面的差別，是應(yīng)用專利指標(biāo)時(shí)必須注意的問(wèn)題。也許今后有必要建立國(guó)際專利指標(biāo)數(shù)據(jù)庫(kù)，增加專利指標(biāo)衡量的國(guó)際通用性。由于數(shù)據(jù)問(wèn)題，部分指標(biāo)目前還不能實(shí)際應(yīng)用于所有國(guó)家，但這并不影響整個(gè)指標(biāo)體系中納入該項(xiàng)指標(biāo)。
　　
　　4　結(jié)語(yǔ)
　　
　　 本文從不同角度對(duì)專利指標(biāo)進(jìn)行了一些基礎(chǔ)性研究，初步建立了一個(gè)專利分析評(píng)價(jià)指標(biāo)體系。通過(guò)分析專利的類別、引文、權(quán)屬、數(shù)量以及其它各著錄項(xiàng)等內(nèi)容，對(duì)機(jī)構(gòu)的研發(fā)現(xiàn)狀、研發(fā)效益、未來(lái)研發(fā)趨勢(shì)、技術(shù)革新貢獻(xiàn)等方面進(jìn)行了定量分析評(píng)估，可以為評(píng)價(jià)與管理、科技決策提供有力的參考依據(jù)，有助于專利戰(zhàn)略的制定與實(shí)施。

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